ASML的光刻机
最近，最新一代的国产光刻机横空出世了？据说这款光刻机能够制造7纳米的芯片，这让美国的脸色变得分外难看，那么，中国最新一代的光刻机究竟采用了什么样的技术，才让这款光刻机能够直接生产出7纳米芯片呢？
运行当中的光刻机
根据国产光刻机已经完成相关认证，并且会在年底正式量产并且投入使用的消息，可以确定中国这一次生产的光刻机是上海微电子装备有限公司所生产的，而这台光刻机的精确度是28纳米，严格来说依旧是DUV光刻机，在借助掩膜并进行多次复刻后，这款刻录机所能达到的最大极限水平，就制造出精密度为7纳米的芯片，如果中国想要攻关接下来的5纳米甚至三纳米芯片，那么，EUV光刻机，就是澜在中国面前最大的拦路虎。
国产光刻机
但28纳米光刻机的完全国产化成功，对于中国来说并不是什么坏事，因为7纳米精密度的芯片，已经能够满足绝大多数芯片的生产所需，如果中国能够顺利掌握使用DUV光刻设备生产7纳米芯片的技术，就算是像是CPU又或者GPU这类对芯片加工能力较高的设备也能被顺利完成，再加上中国缺乏的，并不仅仅只有光刻机的制造能力，而且还有着包括光刻胶在内其他辅助材料和设备的生产能力。
对于中国来说，如何确保同样重要的光刻胶供应完全国产化，又或者提升大直径晶圆供应，或许比起继续提升光刻机精密度来说更为重要，因为，只有彻底完成了这些方面，中国才能确保本国的芯片生产和加工能力完全自主，从而确保在不使用任何国外设备和部分加工制品的前提下，完成对本国高性能和高精密度芯片的生产。
光刻机的内部结构
也只有通过这一系列方法，将中国自身的高精密度加工能力再次提升一个档次，接下来和中国才会有着足够的能力去挑战极紫外光刻机的研发和生产工作：尤其是现今极紫外光刻机在名义上由名为ASML的荷兰公司一手掌握，但实际上，极紫外线光刻机实际上是由整个西方国家分工合作，通过多国共同生产一系列超高精密度零部件和元器件的方式，为ASML提供各种各样的设备，才能让这一荷兰企业具备生产极紫外光刻机的能力，这也意味着中国必须同时掌握这一系列西方国家各自拥有的长处，并且领先于它们，才能确保中国生产出能够超越西方标准的超高精密度光刻机。
所以，上海微电子生产的28纳米光刻机，会让美国和ASML感到头痛，但这并不能给这两个国家造成任何威胁，因为现在中国依旧未能完全掌握有关于芯片生产的全部关键技术，倘若中国想要在未来夺取半导体行业的领先优势，那依旧在埋头苦练内功的同时，跟随时代的发展察觉技术发展的方向，才能在最后夺取半导体生产竞争的最后胜利。
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